УТБ 2300-3Т3К3-31А2.2К2-НГ

Установка химического травления полупроводниковых пластин УТБ2300-3Т3К3-31А2.2К2-НГ предназначена для проведения технологических процессов травления полупроводниковых пластин в различных невзрывоопасных реагентах.